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石碑如何产生及抵达美国目前尚没有确凿的依据,因而目前对石碑历史的讨论多来源于猜测。一种说法认为,石碑为美国传教士丁韪良与宁波近代外交家张斯桂共同制作,并于1853年运抵美国。也有研究者认为,西方传教士在宁波日益扩大的政治影响和宁波民间工商业的发达使得民主意识得到萌发,因而为官方赠送石碑提供了可能。但也有研究者认为,宁波知府因其官阶过低不可能代表中国向美国政府赠送礼物。与此同时,知府本人并非基督徒,因而不可能与一批基督徒一起署名,因而石碑的赠送不可能是政府行为。丁韪良在其自传《花甲忆记》中未曾提到赠送石碑一事,这也使得丁韪良是否参与石碑赠送存疑。而玛高温曾在1865年给布伦特(J.C. Brent)的信件中提到,“我已荣幸地将一块花岗岩石碑送至了你们崇高而虔敬的纪念碑处。那块石碑是在我的倡议下,由身处中国宁波的美国传教使团的基督徒们准备的”。因而,石碑更有可能是由玛高温携带至美国并捐献给华盛顿纪念碑。
1865年,石碑文字的作者徐继畬复官,任职于总理衙门并管理同文馆。1867年,美国总统安德鲁·约翰逊请国务卿威廉·H·苏厄德邀请一位艺术家复制吉尔伯特·斯图尔特所绘的华盛顿画像,并在北京举行赠送仪式,由美国驻华公使蒲安臣将画像赠送给徐继畬。1868年3月29日《纽约时报》以《美国在中国之影响》为题报道了此事。
1998年,时任美国总统比尔·克林顿在访问中国途中,在北京大学发表演讲时,向150年前中国赠送该份礼物表示感谢,并表示徐继畬所述的内容为美国立国的核心理想。这次演讲也使得这块石碑得到了中国公众的关注。
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化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种,既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料,并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起,而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动(通常是以相反的方向转),但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去,从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能,从而能够提高集成度。
化学机械平坦化是在机械抛光的基础上根据所要抛光的表面加入相应的化学添加剂从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。
氧化硅抛光主要被应用于平坦化金属层间淀积的层间介质(ILD),其基本机理是Cook理论。磨料中的水和氧化硅发生表面水合作用,从而使氧化硅的硬度、机械强度等有效降低,在机械力的作用下将氧化硅去除。氧化硅的去除速率主要由Preston方程表达。
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