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化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
化学机械平坦化是在机械抛光的基础上根据所要抛光的表面加入相应的化学添加剂从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。
氧化硅抛光主要被应用于平坦化金属层间淀积的层间介质（ILD），其基本机理是Cook理论。磨料中的水和氧化硅发生表面水合作用，从而使氧化硅的硬度、机械强度等有效降低，在机械力的作用下将氧化硅去除。氧化硅的去除速率主要由Preston方程表达。
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唐朝武德元年（618年）分相州的滏阳县、临水县、成安县复置。四年（621年），割洺州的临洺县、武安县、邯郸县、肥乡县来属。六年（623年），置磁州总管府，领六州：磁州、邢州、洺州、黎州、相州、卫州。其年，废总管府。临洺县、武安县、肥乡县仍属洺州，磁州领滏阳县、成安县、邯郸县。贞观元年（627年）又省，滏阳县、成安县还隶相州，邯郸县隶洺州。
永泰元年（765年）六月，昭义节度使薛嵩请于淦阳复置磁州，领四县：滏阳县、邯郸县、武安县、昭义县（临水县）。辖境相当今河北省邯郸市、磁县、武安市等市县。因为新置州，未计户口帐籍。天祐三年（906年），因与慈州同音，改名惠州。
明朝洪武初年，磁州、滏阳县俱废。洪武元年（1368年）十一月，复置磁州，属广平府，领武安县。洪武二年（1369年），增领涉县。辖境相当今磁县、涉县及武安市等地。
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蛋白质方法（Protein methods）指那些用于研究蛋白质的技术。
其中有研究蛋白质的遗传学方法、检测蛋白质的方法、分离与纯化蛋白质的方法以及其他表征蛋白质结构与功能的方法，其中常常需要首先将蛋白质纯化。
许多蛋白质永远无法直接被测序，但是它们的氨基酸序列可以通过对已知mRNA序列进行“概念翻译”的手段获知。见：“遗传密码”。
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