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使用传统的矽半导体器件制造技术，即可在晶圆上形成SiGe。在CMOS制程方面，SiGe制程的成本和矽制程相当，但在异质接面技术方面，SiGe制程的成本比砷化镓制程还要低。近来，使用有机金属气相磊晶 （MOVPE）沉积高纯度的含Ge薄膜、SiGe和应变矽时，会使用只有少量危害的液体来当做替代物，像有机锗化合物前体（如：异丁基锗烷、三氯锗烷、二甲氨基三氯锗烷）。
拥有SiGe制作服务的共有以下几家公司：国际商务机器（IBM）、意法半导体（STMicroelectronics）、台湾积体电路制造股份有限公司（TSMC）、飞思卡尔（Freescale，原本的摩托罗拉半导体部门）、索尼（Sony）、Atmel、Chartered Semiconductor Manufacturing、Micrel、英飞凌（Infineon）、德州仪器（TI）、IHP、Jazz Semiconductor，原本的胜讯（Conexant）。超微半导体（AMD）有意加入IBM的SiGe应变矽技术开发计划，让技术迈入65nm级规模。
2015年七月，IBM公司宣布通过SiGe工艺制成了7 nanometer级晶体管，有望使晶体管的产量上升三倍。
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* 硫磺岛：面积11.65平方公里、周长14.5公里、人口142人
* 黑岛：面积15.37平方公里、周长15.2公里、人口215人
直到二次大战前是吐噶喇群岛，三岛村所属的三个有人岛屿与现在的十岛村的七个有人岛屿同属大岛郡十岛村。但在日本战败后，美军以北纬30度（屋久岛和口之岛之间）为界线，以南的岛屿全列入美军管辖，十岛村辖下岛屿都被划入，包括村公所所在地中之岛亦被列入美军管辖范围，仅剩下竹岛、硫磺岛和黑岛。因此日本以仅剩下的三个岛为辖区，重新设置新的十岛村村公所，置于鹿儿岛郡辖下，公所设于鹿儿岛市，最初职员也仅3人。
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